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近年來，隨著科技不斷發(fā)展和進(jìn)步，各種先進(jìn)的成像技術(shù)被廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)、醫(yī)學(xué)、地質(zhì)探測(cè)以及環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域。其中，高光譜成像技術(shù)是一項(xiàng)非常重要的成果之一。顧名思義，高光譜相機(jī)是指能夠?qū)ξ矬w進(jìn)行多波段連續(xù)頻率校準(zhǔn)拍攝并得出其所含有的色彩信息的照相工具。與傳統(tǒng)單通道相機(jī)只能儲(chǔ)存紅、綠、藍(lán)三原色不同，在采集圖像時(shí)，高光譜攝影可檢測(cè)到更多特定波長(zhǎng)下目標(biāo)反射或輻射出來的信號(hào)，并將其記錄下來。這些數(shù)據(jù)可以通過計(jì)算處理后轉(zhuǎn)換為圖像生成更加詳細(xì)和真實(shí)的視覺效果。如何使用？在現(xiàn)代農(nóng)業(yè)中就是一個(gè)很好例...
查看全文【應(yīng)用案例】Moku:Pro簡(jiǎn)化雙色受激拉曼散射顯微鏡實(shí)驗(yàn)應(yīng)用案例Moku:Pro簡(jiǎn)化雙色受激拉曼散射顯微鏡實(shí)驗(yàn)介紹在華盛頓大學(xué),研究人員致力于雙色受激拉曼散射(SRS)顯微鏡技術(shù)研究開發(fā)化學(xué)成像工具，用于早期癌癥檢測(cè)和了解神經(jīng)退行性疾病進(jìn)展。實(shí)驗(yàn)裝置通常包括多個(gè)復(fù)雜的高性能儀器,用于實(shí)時(shí)雙色SRS成像或兩個(gè)相距較遠(yuǎn)的拉曼躍遷的同步成像。現(xiàn)在，他們正在使用Moku:Pro鎖相放大器和多儀器并行模式，僅通過Moku:Pro一臺(tái)緊湊的多通道設(shè)備進(jìn)行多種實(shí)驗(yàn)并捕捉低強(qiáng)度的SRS信號(hào)...
查看全文Moku云編譯+ChatGPT:客戶定制化需求的天花板Moku：pro不僅能夠解決大多數(shù)電學(xué)信號(hào)的測(cè)試和ji具難度的測(cè)量實(shí)驗(yàn)，而且能夠支持jian端實(shí)驗(yàn)，并能在設(shè)計(jì)具有du特要求的先jin產(chǎn)品時(shí)，具有優(yōu)xiu的表現(xiàn)。科學(xué)家和工程師們經(jīng)常會(huì)在軟件中進(jìn)行方便的離線模擬或數(shù)據(jù)處理，此時(shí)他們會(huì)通過用戶可編程FPGA找到更高性能的解決方案。然而，盡管它們很有用，但這些解決方案有時(shí)候也會(huì)很復(fù)雜且難以實(shí)現(xiàn)。MokuCloudCompile(MCC)云編譯為熟悉FPGA編程的用戶xiao除了...
查看全文光學(xué)成像要通過光學(xué)零件的折射和反射來實(shí)現(xiàn)，決定一種材料能否用來制造光學(xué)零件，要看它對(duì)要求成像的波段是否透明，或者在反射的情況下是否具有足夠高的反射率。對(duì)于透射光學(xué)零件來說，透射材料的特性除了透過率之外，還有它對(duì)各種特征譜線的折射率，其中以D或d線的折射率nD或nd以及F線和C線的折射率差nF-nc作為其主要的光學(xué)性能參數(shù)，這是因?yàn)镕線和C線接近人眼光譜靈敏極限的兩端，而D線或d線在其中間，接近人眼靈敏的波長(zhǎng)，nd稱為平均折射率，nF-nc稱為平均色散。此外，將?d=(nd-1...
查看全文在一個(gè)簡(jiǎn)單的激光器中，每一個(gè)模式都獨(dú)立地振蕩，彼此之間沒有固定的關(guān)系，本質(zhì)上就像一組獨(dú)立的激光器，它們都以略微不同的頻率發(fā)光。每種模式中光波的各個(gè)相位都不是固定的，可能會(huì)因激光器材料的熱變化等因素而隨機(jī)變化。在只有少數(shù)振蕩模式的激光器中，模式之間的干擾會(huì)導(dǎo)致激光輸出中的拍頻效應(yīng)，導(dǎo)致強(qiáng)度波動(dòng)；在具有數(shù)千個(gè)模式的激光器中，這些干擾效應(yīng)趨于平均到接近恒定的輸出強(qiáng)度。如果不是獨(dú)立振蕩，而是每個(gè)模式運(yùn)行時(shí)與其他模式之間保持固定的相位差，則激光輸出的行為會(huì)截然不同。激光模式將周期性地相...
查看全文點(diǎn)衍射干涉儀的精度檢驗(yàn)方法點(diǎn)衍射干涉儀（PointDiffractionInterferometer，PDI）是一種基于衍射干涉原理的光學(xué)測(cè)量設(shè)備。它利用激光束小孔后產(chǎn)生接近理想的點(diǎn)光源對(duì)物體表面進(jìn)行測(cè)量，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)物體形狀、表面粗糙度、折射率等參數(shù)的高精度測(cè)量。點(diǎn)衍射干涉儀不需要標(biāo)準(zhǔn)參考件，可以用于超高精度面型的檢測(cè)，是一種非常重要的高精度測(cè)量?jī)x器。1.1測(cè)試光路測(cè)試系統(tǒng)主要由D7點(diǎn)衍射干涉儀主機(jī)，準(zhǔn)直器，5mm口徑鋁鏡，光學(xué)平臺(tái)等構(gòu)成。1.2測(cè)試環(huán)境溫度：21℃&plus...
查看全文非接觸式金屬膜厚測(cè)量?jī)x是一種常見的表面分析儀器，其原理基于光學(xué)干涉或者電磁感應(yīng)等技術(shù)。相比于傳統(tǒng)的劃痕法和化學(xué)分析法，非接觸式金屬膜厚測(cè)量?jī)x具有高精度、快速和不破壞測(cè)試樣品等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子工程、光學(xué)制造等領(lǐng)域。原理是利用光學(xué)干涉原理或電磁感應(yīng)原理來測(cè)定薄膜的厚度。其中，光學(xué)干涉法是通過反射光線之間的干涉來測(cè)量薄膜的厚度，而電磁感應(yīng)法則是依靠磁場(chǎng)的變化來檢測(cè)薄膜的存在和厚度。這些原理都是建立在測(cè)量薄膜對(duì)光線或磁場(chǎng)的影響上，通過實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)信號(hào)變化來計(jì)算出薄膜的厚度。...
查看全文Upto98%光利用率——鍍介質(zhì)鏡型純相位高速高損傷閾值SLM！液晶空間光調(diào)制器（SLM）可以將數(shù)字化數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為適合各種應(yīng)用的相干光學(xué)信息，包括雙光子/三光子顯微成像、光鑷、自適應(yīng)光學(xué)、湍流模擬、光計(jì)算、光遺傳學(xué)和散射介質(zhì)成像等應(yīng)用。這些應(yīng)用需要能夠輕松快速地改變相干光束波前的調(diào)制器。通過將液晶材料的電光性能特征與基于硅的數(shù)字電路相結(jié)合，MeadowlarkOptics現(xiàn)在提供了高分辨率的SLM，這些SLM還具有物理緊湊性和高光學(xué)xiao率。圖一：緊湊的HSP1K（1024×...
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